♦ Алуминиев оксид (al2O3)
Прецизните керамични части, произведени от Zhonghui Intelligent Manufacturing Group (zhhimg), могат да бъдат направени от керамични суровини с висока чистота, 92 ~ 97% алуминиев оксид, 99,5% алуминиев оксид,> 99,9% алуминиев оксид и CIP студено изостатично пресоване. Високотемпературно синтероване и прецизна обработка, размерена точност от ± 0,001 мм, гладкост до RA0.1, използвайте температура до 1600 градуса. Различните цветове на керамиката могат да бъдат направени според изискванията на клиентите, като например: черно, бяло, бежово, тъмночервено и др. Прецизните керамични части, произведени от нашата компания, са устойчиви на висока температура, корозия, износване и изолация и могат да се използват дълго време при висока температура, вакуум и корозивна газова среда.
Широко използван в разнообразно оборудване за производство на полупроводници: рамки (керамична скоба), субстрат (основа), рамо/ мост (манипулатор), механични компоненти и керамичен въздух.
| Име на продукта | Висока чистота 99 Алуминиев керамичен квадрат / тръба / пръчка | |||||
| Индекс | Единица | 85 % AL2O3 | 95 % AL2O3 | 99 % AL2O3 | 99,5 % AL2O3 | |
| Плътност | g/cm3 | 3.3 | 3.65 | 3.8 | 3.9 | |
| Поглъщане на вода | % | <0.1 | <0.1 | 0 | 0 | |
| Синюрирана температура | ℃ | 1620 | 1650 | 1800 | 1800 | |
| Твърдост | Mohs | 7 | 9 | 9 | 9 | |
| Сила на огъване (20 ℃)) | MPA | 200 | 300 | 340 | 360 | |
| Якост на натиск | Kgf/cm2 | 10000 | 25000 | 30000 | 30000 | |
| Дълго време на работна температура | ℃ | 1350 | 1400 | 1600 | 1650 | |
| Макс. Работна температура | ℃ | 1450 | 1600 | 1800 | 1800 | |
| Обемно съпротивление | 20 ℃ | Ω. cm3 | > 1013 | > 1013 | > 1013 | > 1013 |
| 100 ℃ | 1012-1013 | 1012-1013 | 1012-1013 | 1012-1013 | ||
| 300 ℃ | > 109 | > 1010 | > 1012 | > 1012 | ||
Прилагане на алуминиева керамика с висока чистота:
1. Приложено за полупроводниково оборудване: керамичен вакуум патрон, режещ диск, почистващ диск, керамичен патронник.
2. Части за прехвърляне на вафли: Патрони за обработка на вафли, дискове за рязане на вафли, дискове за почистване на вафли, оптични засмукателни чаши за проверка на вафли.
3. LED / LCD Плосък панел Индустрия: Керамична дюза, керамичен шлайфащ диск, щифт, щифт, щифт.
4. Оптична комуникация, слънчева промишленост: керамични тръби, керамични пръти, печат на екрана от печат на екрана Керамични скрепери.
5. Топлоустойчиви и електрически изолационни части: керамични лагери.
Понастоящем алуминиевата оксидна керамика може да бъде разделена на висока чистота и обикновена керамика. Серията алуминиева оксидна керамика с висока чистота се отнася до керамичния материал, съдържащ повече от 99,9% al₂o₃. Поради температурата си на синтероване до 1650 - 1990 ° C и дължината на вълната на предаването 1 ~ 6 μm, той обикновено се обработва в слети стъкло, вместо платинен тигел: който може да се използва като натриева тръба поради своята светлинна предавателност и корозионна устойчивост на алкален метал. В индустрията на електрониката може да се използва като високочестотен изолационен материал за IC субстрати. Според различното съдържание на алуминиевия оксид, общата серия от алуминиев оксид може да бъде разделена на 99 керамика, 95 керамика, 90 керамика и 85 керамика. Понякога керамиката с 80% или 75% от алуминиевия оксид също се класифицира като обикновена серия от алуминиев оксид. Сред тях се използва 99 алуминиев оксид керамичен материал за производство на високотемпературен тигел, огнеупорна тръба за пещ и специални устойчиви на износване материали, като керамични лагери, керамични уплътнения и клапани. 95 алуминиева керамика се използва главно като устойчива на корозия част от износване. 85 Керамиката често се смесва в някои свойства, като по този начин подобрява електрическата характеристика и механичната якост. Той може да използва молибден, ниобий, танталум и други метални уплътнения, а някои се използват като електрически вакуумни устройства.
| Качествен артикул (представителна стойност) | Име на продукта | AES-12 | AES-11 | AES-11C | AES-11F | AES-22s | AES-23 | AL-31-03 | |
| Химически състав с ниско-натрий лесен синтерован продукт | H₂o | % | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 |
| LOL | % | 0.1 | 0.2 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | |
| Fe₂0₃ | % | 0,01 | 0,01 | 0,01 | 0,01 | 0,01 | 0,01 | 0,01 | |
| Sio₂ | % | 0,03 | 0,03 | 0,03 | 0,03 | 0,02 | 0,04 | 0,04 | |
| Na₂o | % | 0,04 | 0,04 | 0,04 | 0,04 | 0,02 | 0,04 | 0,03 | |
| Mgo* | % | - | 0.11 | 0,05 | 0,05 | - | - | - | |
| Al₂0₃ | % | 99.9 | 99.9 | 99.9 | 99.9 | 99.9 | 99.9 | 99.9 | |
| Диаметър на средни частици (MT-3300, метод за лазерен анализ) | μm | 0,44 | 0,43 | 0,39 | 0.47 | 1.1 | 2.2 | 3 | |
| α размер на кристала | μm | 0.3 | 0.3 | 0.3 | 0.3 | 0,3 ~ 1,0 | 0,3 ~ 4 | 0,3 ~ 4 | |
| Формулираща плътност ** | g/cm³ | 2.22 | 2.22 | 2.2 | 2.17 | 2.35 | 2.57 | 2.56 | |
| Плътност на синтероване ** | g/cm³ | 3.88 | 3.93 | 3.94 | 3.93 | 3.88 | 3.77 | 3.22 | |
| Скорост на свиване на синтеровъчната линия ** | % | 17 | 17 | 18 | 18 | 15 | 12 | 7 | |
* MGO не е включен в изчисляването на чистотата на al₂o₃.
* Без мащабиране на прах 29,4MPa (300 кг/см 2), температурата на синтероване е 1600 ° С.
AES-11 / 11C / 11F: Добавете 0,05 ~ 0,1% MGO, синтеровъчността е отлична, така че е приложима за керамиката на алуминиевия оксид с чистотата над 99%.
AES-22s: Характеризира се с висока плътност на формиране и ниска скорост на свиване на синтероващата линия, тя е приложима за леене на форма за приплъзване и други мащабни продукти с необходимата точност на размерите.
AES-23 / AES-31-03: Той има по-висока плътност на образуването, тиксотропия и по-нисък вискозитет от AES-22s. Първият се използва за керамика, докато втората се използва като редуктор на вода за огнеупорни материали, придобивайки популярност.
♦ Характеристики на силициев карбид (SIC)
| Общи характеристики | Чистота на основните компоненти (wt%) | 97 | |
| Цвят | Черно | ||
| Плътност (g/cm³) | 3.1 | ||
| Поглъщане на вода (%) | 0 | ||
| Механични характеристики | Сила на гъвкавост (MPA) | 400 | |
| Млад модул (GPA) | 400 | ||
| Твърдост на Викерс (GPA) | 20 | ||
| Топлинни характеристики | Максимална работна температура (° C) | 1600 | |
| Коефициент на термично разширение | RT ~ 500 ° C. | 3.9 | |
| (1/° C x 10-6) | RT ~ 800 ° C. | 4.3 | |
| Топлинна проводимост (w/m x k) | 130 110 | ||
| Термично съпротивление на шока ΔT (° С) | 300 | ||
| Електрически характеристики | Обемно съпротивление | 25 ° C. | 3 x 106 |
| 300 ° C. | - | ||
| 500 ° C. | - | ||
| 800 ° C. | - | ||
| Диелектрична константа | 10GHz | - | |
| Диелектрична загуба (x 10-4) | - | ||
| Q фактор (x 104) | - | ||
| Диелектрично напрежение на разрушаване (kV/mm) | - | ||
♦ Силиконова нитридна керамика
| Материал | Единица | Si₃n₄ |
| Метод на синтероване | - | Газово налягане, синтерирано |
| Плътност | g/cm³ | 3.22 |
| Цвят | - | Тъмно сиво |
| Скорост на поглъщане на вода | % | 0 |
| Млад модул | GPA | 290 |
| Твърдост на Викерс | GPA | 18 - 20 |
| Якост на натиск | MPA | 2200 |
| Сила на огъване | MPA | 650 |
| Топлинна проводимост | W/mk | 25 |
| Устойчивост на термичен удар | Δ (° C) | 450 - 650 |
| Максимална работна температура | ° C. | 1200 |
| Обемно съпротивление | Ω · cm | > 10 ^ 14 |
| Диелектрична константа | - | 8.2 |
| Диелектрична якост | KV/mm | 16 |